Uma equipe de pesquisadores do Instituto Kavli de Ciências Teóricas, China, desenvolveu uma nova estrutura para modelar isoladores topológicos fortemente correlacionados
A estrutura da banda de um materials pode ser fortemente influenciada por correlações entre elétrons. (Cortesia: Shutterstock/elic)
Os isoladores topológicos geraram muito interesse nos últimos anos devido a suas aplicações em potencial em computação quântica, spintronics e processamento de informações.
A propriedade definidora desses materiais é que seu inside se comporta como um isolador elétrico, enquanto a superfície se comporta como um condutor elétrico. Em outras palavras, os elétrons só podem se mover ao longo da superfície do materials.
Em alguns casos, no entanto, conhecidos como sistemas fortemente correlacionados, as fortes interações entre elétrons fazem com que essa imagem relativamente simples seja dividida.
Acontece e modelagem de isoladores topológicos fortemente correlacionados, é extremamente desafiador.
Uma equipe de pesquisadores do Instituto Kavli de Ciências Teóricas, na China, enfrentou recentemente esse desafio usando uma nova abordagem que emprega estados tensores fermiônicos.
Sua estrutura reduz notavelmente o número de parâmetros necessários em simulações numéricas. Isso deve levar a uma eficiência computacional bastante aprimorada ao modelar esses sistemas.
Ao combinar seus métodos com técnicas numéricas avançadas, os pesquisadores esperam poder superar os desafios apresentados por fortes efeitos de interação.
Isso levará a uma compreensão mais profunda das propriedades de sistemas fortemente correlacionados e também poderá permitir a descoberta de novos materiais com novas propriedades emocionantes.
